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精密激(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)系統涵蓋導電玻(bo)璃(li)、薄膜(mo)激(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機(ji)、超大(da)幅面激(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機(ji)、鈣鈦礦電池激(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機(ji)、FTO/ITO激(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機(ji)。可(ke)針對光(guang)(guang)伏(鈣鈦礦電池)、新能源、觸摸(mo)屏、電致色玻(bo)璃(li)、發光(guang)(guang)玻(bo)璃(li)行(xing)業(ye)的激(ji)光(guang)(guang)蝕(shi)刻(ke)/劃線。應用于銀漿、ITO、FTO、氧化鋅(xin)、氧化鋯(gao)、氧化鈦、金(jin)、銀、碳粉、CNT碳納米管(guan)、石墨烯、納米銀、高分子導電膜(mo)、銅(tong)薄膜(mo)、鋁(lv)薄膜(mo)、鉬(mu)鋁(lv)鉬(mu)薄膜(mo)、PERC等材料(liao)激(ji)光(guang)(guang)蝕(shi)刻(ke)。
窄脈寬紅外納秒激光刻蝕機,適用于FTO、ITO、氧化鋅鍍層玻璃、薄膜激光刻蝕。設備標準尺寸600*600mm、600*1200mm,可以滿足10*10mm到300*300mm內的加工需求。
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