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導電(dian)薄膜(mo)激(ji)(ji)光(guang)刻蝕(shi)機適(shi)用于(yu)PET薄膜(mo)基底上的導電(dian)材料(liao)進行高(gao)速激(ji)(ji)光(guang)刻蝕(shi)、剝(bo)離、劃線。適(shi)用于(yu)氧化(hua)銦錫(xi)(ITO),銀漿(Ag)、碳(tan)納(na)米管(CNT)、石墨烯、納(na)米銀、鉬鋁鉬、銅、高(gao)分子導電(dian)膜(mo)、氧化(hua)鋅、PERC、鈣鈦(tai)礦電(dian)池、FTO、TCO、碳(tan)粉等(deng)涂層材料(liao)的超細線寬激(ji)(ji)光(guang)蝕(shi)刻。
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設(she)備適用于PET薄膜和Glass玻璃(li)基底上的導電材料進(jin)行高(gao)速激光刻蝕、剝離、蝕刻、刻線、劃片、材料(liao)去除、構造。
適用材料
玻璃(li)/薄膜表面氧化銦(yin)錫(ITO),銀漿(jiang)(Ag)、碳納(na)米管(guan)(CNT)、石墨烯、油墨、納米銀、鉬(mu)鋁鉬(mu)、銅、高(gao)分(fen)子(zi)導電膜、鋁薄膜、PERC、鈣(gai)鈦礦電池、FTO、TCO、碳粉等涂層材(cai)料的超細線寬(kuan)激光蝕刻、除膜應用等。
應用行(xing)業(ye)
1.手機(ji)、車(che)載(zai)、平(ping)板(ban)、智能穿(chuan)戴,點餐(can)機(ji)等(deng)觸(chu)控(kong)屏GF,GFF,OGS。
2.車載觸控屏體的OGS上導電膜層的刻(ke)蝕。
3.薄膜(mo)太陽能電池(chi)、鈣鈦礦電池(chi)等(deng)光(guang)伏行業。
4.新興能源行業,如電致色(se)調(diao)光玻璃等。
5.發光玻(bo)璃(li)、戶外(wai)顯示玻(bo)璃(li)、顯示柔性薄膜等。
6.其他(ta)顯示屏。
產品特(te)點(dian)
1.激光蝕(shi)刻為干式蝕(shi)刻,加工(gong)(gong)制程(cheng)簡單,所有(you)加工(gong)(gong)均(jun)由軟件自(zi)動控(kong)制,產品一致性高(gao),良率高(gao)達99%,無耗材,環保,可靠穩定。
2.CCD相(xiang)機自動(dong)定位,加工精度高(gao)。
3.設(she)備操作簡單,圖檔更(geng)新方便,制(zhi)程縮短,稼(jia)動率(lv)高。
4.設(she)備(bei)控制軟(ruan)件能夠實現自(zi)動圖(tu)檔分割,移動拼(pin)接(jie)加(jia)工,拼(pin)接(jie)精度可達(da)±3μm
5.耗(hao)電量省,操作人員少,無污染,生產成本低。
技術參數/Specification
激光器(qi) | 光纖激光器(qi) | 綠光(guang)(guang)激光(guang)(guang)器 | 紫外激光器 |
激光波長 | 1064nm | 532nm | 355nm |
激光功率(lv) | 20W | 10W | 10W |
脈沖寬度 | 納秒(miao)、飛秒(miao)、皮秒(miao)可選 | 納秒(miao)、皮(pi)秒(miao)可選 | 納秒(miao)、皮秒(miao)可選 |
最(zui)小聚(ju)焦(jiao)光斑 | <10μm(視(shi)材料(liao)與激光器(qi)類型、脈寬而(er)定(ding)) | ||
最小刻蝕(shi)線寬 | <10μm(視材料(liao)與(yu)激光器(qi)類型、脈(mo)寬(kuan)而定(ding)) | ||
刻蝕速度 | <4000mm/s | ||
加(jia)工范(fan)圍 | 600*1200mm/600*600mm(標準尺寸,可根據客戶要求定制(zhi)) | ||
單次最大幅面 | 110mmX110mm (標(biao)準配置,根據需求(qiu)可選(xuan)配) | ||
CCD自(zi)動(dong)定位(wei)精度(du) | ±3μm | ||
直線電機工作臺定位精度 | ±2μm | ||
直線電機工作臺重復精度 | ±1um | ||
設備尺寸 | 1650mmL×1300mmW×1670mmH | ||
設備重量 | 1800kg | ||
可處理文件格(ge)式 | 標(biao)準Gerber文件,DXF文件,PLT文件等 |
元祿光(guang)電已開發(fa)出小(xiao)型FTO、ITO激光刻蝕設(she)備,可用于前期實(shi)驗階段加(jia)工,歡(huan)迎電話咨詢了解。
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