導電玻璃(li)是指透明導電氧化(hua)物，如氧化(hua)銦錫(xi)ITO、摻雜氟(fu)的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等，部分(fen)為銅、鋁、金(jin)等材(cai)料，以玻(bo)璃(li)(li)為基材(cai)，通過磁控濺射等方(fang)式將導(dao)電材(cai)料生長在玻(bo)璃(li)(li)上的產(chan)品，常用(yong)于觸摸(mo)屏、光伏太(tai)陽(yang)能電池(chi)、戶外顯示、航空航天等諸(zhu)多領(ling)域當中。
導電玻璃在產品成型之前需要對其進行刻蝕加工，形成電路圖，光伏行業主要是劃線，做成一個個小單元的電極，增大電壓，無論哪一個應用領域，都需要對其進行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學刻蝕以及機械劃線等幾種方式，武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優缺點以及重點介紹激光刻蝕機的選型。
化學刻蝕(shi)：優點是加工速度(du)快，一(yi)次成(cheng)型，適合大面積加工；缺(que)點是添加劑具有(you)毒性(xing)，并且具有(you)一(yi)定的(de)污染性(xing)，操作流程相對(dui)復雜，對(dui)掩膜(mo)版要求高，不具備(bei)超精密微納結構的(de)加工能力(li)。
等(deng)離子(zi)刻蝕(shi)：超(chao)細微精(jing)密刻蝕(shi)，刻蝕(shi)線寬達到納米級，精(jing)度高；缺(que)點(dian)是成(cheng)本高，對(dui)使(shi)用環境等(deng)諸多要素都有極高要求。
機械劃線(xian)：主要優勢是(shi)成本低廉；缺(que)點也顯(xian)而易見，對(dui)基材(cai)的損傷、線(xian)寬(kuan)控(kong)制、精度(du)控(kong)制、效果控(kong)制都不(bu)如其(qi)他加工，早期(qi)常應(ying)用(yong)于(yu)光伏太陽(yang)能劃線(xian)。
激(ji)光(guang)(guang)刻蝕：分(fen)為干法刻蝕和黃(huang)光(guang)(guang)曝光(guang)(guang)兩種，黃(huang)光(guang)(guang)曝光(guang)(guang)的優(you)勢在(zai)于(yu)一次成型(xing)，精(jing)度高(gao)、刻蝕效果好、精(jing)細，缺點是(shi)成本相(xiang)對較高(gao)，具備污染性(xing)。干法刻蝕是(shi)指激(ji)光(guang)(guang)直接入射在(zai)材料表面(mian)無需任何(he)添加劑，通過高(gao)能量的光(guang)(guang)束汽(qi)化材料，形(xing)成線(xian)路或斷路，相(xiang)比較于(yu)其(qi)他幾(ji)種工藝，在(zai)導(dao)電玻(bo)璃行業中可謂星光(guang)(guang)熠熠，處處優(you)勢明顯，也是(shi)目前整個行業領域內最(zui)主流的機器。
激光刻蝕機
激光(guang)刻蝕機的主要(yao)優點是(shi)操作簡便，導(dao)入CAD或(huo)Gerber文件(jian)，通過振鏡偏轉(zhuan)、配合XY軸(zhou)移動形成(cheng)大面積的(de)刻蝕(shi)成(cheng)型，無(wu)耗材、無(wu)污(wu)染，刻蝕(shi)干凈，最小線寬可達到亞納米級(ji)別，目(mu)前武漢元祿光電普通振(zhen)鏡掃描方(fang)式，導電ITO玻璃(li)最(zui)小線寬(kuan)在3微米，而(er)在實驗室內最小(xiao)可達700nm線(xian)寬，特(te)別(bie)適合于導電玻璃微(wei)納激光刻蝕。
激光刻蝕機用于導電玻(bo)璃(li)行業中主要激光波段為1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機以(yi)及1030/515nm/355nm波段的(de)飛秒(miao)激光刻(ke)蝕機，根據(ju)不同(tong)(tong)的(de)應用場景需(xu)求，配(pei)置不同(tong)(tong)的(de)激光器，并且會(hui)根據(ju)實際需(xu)求選擇不同(tong)(tong)的(de)光學(xue)器件，如掃描幅面(mian)、擴束倍數、加(jia)工面(mian)積等條件。
一般(ban)來(lai)說(shuo)(shuo)，激光(guang)(guang)刻蝕機的(de)(de)(de)(de)參考(kao)選型主(zhu)要參考(kao)因素是導(dao)電玻璃的(de)(de)(de)(de)材料、幅寬、線(xian)寬、線(xian)間(jian)距(ju)要求(qiu)，至于(yu)說(shuo)(shuo)材料的(de)(de)(de)(de)厚度(du)(du)一般(ban)都是在幾百(bai)微米(mi)(mi)范圍(wei)內，有的(de)(de)(de)(de)甚至只有幾個納米(mi)(mi)，對于(yu)激光(guang)(guang)刻蝕機來(lai)說(shuo)(shuo)不難(nan)加(jia)工(gong)，主(zhu)要還是看熱(re)影(ying)響范圍(wei)區域，加(jia)工(gong)后的(de)(de)(de)(de)線(xian)寬、線(xian)間(jian)距(ju)以及線(xian)性(xing)直線(xian)度(du)(du)、加(jia)工(gong)精度(du)(du)以及誤差(cha)等影(ying)響。
因(yin)此(ci)確定激光刻蝕機的(de)選(xuan)擇(ze)需(xu)要明確以上(shang)幾點，根據需(xu)求(qiu)推薦對(dui)應的(de)機器類型，一般來說紅(hong)外1064納(na)秒激(ji)光刻蝕機主要適用(yong)于20微米(mi)以(yi)上(shang)線寬的加(jia)工要求，飛秒激光(guang)刻蝕(shi)機主(zhu)要適用于多層材料的導電玻(bo)璃激光(guang)刻蝕(shi)，如特殊需求仍需以(yi)實驗試樣為準。
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